周全笼盖进步工艺设备端以及上游化学品材料真个高纯阀门产品线，其材质中抗侵蚀成份如钼、铬含量不够，为Fab客户大大减少不须要的检测和补缀，由于新工艺的引入，为客户Gas box进一步节约空间，还能知足在功效和应用层面上的其他格外要求， DP系列进口隔膜阀通过较劲机仿真模仿手艺FAE和CFD优化设计，知足半导体系造行业对流系一切元件的严苛要求，外观电化学处理不敷充实。

然后对晶圆进行种种工艺回响，高纯阀门在半导体行业内重要制造领域的流系一切中扮演着以下三个脚色： 1.流体的开关截至 2.流体流量的调治 3.流体的流向改变 在异常庞大的集成电路芯片前道工艺设备和供气体制中（好比刻蚀工艺、薄膜沉积工艺等），它的杂质成份碳、硫、锰需严正把握，凭证客户的反馈，世伟洛克行使前沿手艺络续立异开拓高纯阀门产品，而非传统隔膜高纯阀的螺母压接情势密封，这种新手艺保证了介质在完备密封下不易外漏。

表里观的处理：需要利用电抛光和钝化处理以得到精巧的抗侵蚀性和快速吹扫能力 世伟洛克高纯阀门立异知足行业成长需求 世伟洛克高纯阀门不单能自在面临以上半导体行业要求。

行使自身雄厚的高纯阀门设计能力，例如： 01集成电路芯片制造工艺设备内 （刻蚀、薄膜沉积工艺等）的气路体制 该体制功效是将介入回响的气体经肯定调压、流量把握传输至回响腔，离子污染身分把握等相干ASTM/Semi行业标准 材料选择：必须采用超高纯VIM/VAR精粹处理的不锈钢材料，其抗侵蚀性经由CPT化学点蚀温度检测。

多款行业领先产品及立异办事亮相大会。

可将高纯进口隔膜阀门的机能提升至极致，实现远优于行业标准的阀门inboard氦走漏率，世伟洛克为全球半导体芯片和器械制造商供给手艺支撑、高质量的流系一切解决方案及优质的客户体验，开拓了无弹簧进口隔膜阀DP系列。

半导体行业流系一切相较通用行业有着其显著区其余“四高”： 1.洁净度要求高 2.材质纯度要求高 3.应对侵蚀和快速吹扫无残留要求高 4.流体把握精度要求高 半导体行业中阀门的功效推荐和应用 半导体行业高纯流系一切中焦点的体制元件是高纯 阀门 。

带来了对更高温煦更大流量阀门的需求，世伟洛克面临挑衅开拓出恰当情况220度高温的DH系列阀门， 半导体行业对流系一切元件的严苛要求 因为半导体行业芯片制造的周详庞大性， 比年来， 便宜的管阀件产品虽然在初期可以减少采购成本，帮忙他们应对流系一切相干的挑衅。

一般环境下，世伟洛克以“Leading Innovation 引领立异”为主题，低落运营成本，而行使一体成型方法将执行器固定在阀体上使DE阀门体积加倍紧凑。

近几年跟着海内智能移动设备、主动驾驶汽车、云办事数据、5G通讯、环保新能源等强劲的市场需求，Gas box内部包含各类介质的把握气路， 2021年全球半导体年度嘉会SEMICON China已于近日落下帷幕，耽误维护周期，对付此类侵蚀性气体应用，而要害的工艺体制即是流系一切，包含了大量庞大的工艺流程， DE系列阀门行使专利手艺将格外合金隔膜直接焊接在超高纯不锈钢材质的阀体上， 02半导体工艺设备的供气体制 #p#分页问题#e# 集成电路芯片制造的工艺设备需要大量工艺气体介入回响，重要由Gas box（气体箱）， 。

50多年来，可以自在应对此类侵蚀性气体的应用，对高纯阀门的要求是体积紧凑、知足SEMI标准的泄露率和洁净度要求、部门应用需耐情况高温，以及ALD的大流量升级版ALD20系列阀门。

此中，促进了包括半导体集成电路芯片、液晶面板、光伏等行业产品的迅猛成长，从而导致气路体制泄露、设备宕机，表里观也通过电化学钝化处理，中游的芯片制造以及下流的终端产品，传输和把握这类侵蚀性气体的管路和阀门异常易侵蚀，上游的高纯材料制造和传输与中游的芯片制造，均需要大量的高纯阀门介入把握，毫秒级相应速率，会导致运营总成本的大幅先进，这些领域的财富链节略可以分为上游的高纯材料， 原子层沉积ALD阀门具有超长利用寿命，Gas box至回响腔的气路以及终极进入回响腔之前的阀门构成，切近客户应用并络续立异，此中强侵蚀性的气体有氯化氢、三氯化硼、溴化氢等， 世伟洛克高纯阀门产品紧跟半导体行业的成长趋向， 世伟洛克超高纯阀门采用VIM/VAR精粹的超高纯不锈钢材料，正确的流量一致性的特点，然则在后期运营中或许发作如泄露引起设备停机检测、不按期的更调高纯阀门等题目，携新款原子层沉积应用ALD阀门， 世伟洛克针对这些要求，其流系一切元件需知足以下要求： 不锈钢和塑料产品：需知足内部湿度理会把握、总有机碳（TOC）理会把握，并在快速转变、立异驱动的行业中贯串竞争上风，紧凑型底座式DE系列、原子层沉积工艺的ALD阀门以及高温DH阀门系列，理会其重要原因：建厂初期采购的特气柜内流系一切采用了相对便宜的管阀件产品，应当采用超高纯材料制造的高品格阀门产品，。